引言
DOE(Diffraction optical Element衍射光学元件),微观上可以改变不同位置的传播速度进而改变波前,实现光束的衍射应用。尤其是上世纪梅曼发明第一台红宝石激光器之后,让相干光束的制备变得容易,因此对于光的调制不再局限于透镜,棱镜等,基于衍射光学的DOE开始蓬勃发展。
原理&应用
光束在传播相同时间内,光程长的走的慢,光程短的走的快,波阵面就会转向,意味着光束偏折了。而DOE可用微结来构制造不同的光程差,应用薄元件近似来改变相位,从而实现光束的调制。其发展至今,在应用上分成三个方向:整形,分束,聚焦。
整形在近,远场均可实现平顶型,M型,图案定制等光束整形。在激光加工,医美激光,光纤耦入,武器瞄点,3D传感中均有应用;
分束应用光栅衍射级来实现,包含一维&阵列分束。在结构光方案中的散斑复制,激光多路加工,激光雷达多路感测中均有应用;
聚焦包含单点,多点,线段聚焦等等。主要集中在激光加工领域中,切割,裂片,倒角等等。
整形
整形有匀化,形貌两类侧重。匀化侧重的方案除DOE&自由曲面之外,还有单片随机MLA(micro lens array微透镜阵列),阵列MLA模组匀化等方案,如图1。
图1 左上图阵列MLA模组匀化方案[1]; 右上图单DOE实现方形匀化和整形[1]; 左下图自由曲面实现光束整形[1]; 右下图随机MLA整形方案[2]
侧重形貌的整形方案集中在DOE&自由曲面上。相比MLA类方案的整形,其边缘会更为锐利,相对的角度会更小一些。最常见的就是对单色高斯基模进行远场圆形,方形平顶整形,见图2。此外还有其他整形比如方形,环形,甜甜圈形等等,理论上任意形貌均可实现。
图2 从左到右为圆形,方形,甜甜圈形,环形整形[5]
比如在光纤耦入端,十分强调光强分布曲线,整形的灵活性为其提供了调制的可能。武器的激光瞄点需要十字的标识,该特制的光斑形貌需要整形才能来完成。在扫地机器人的避障感测模组,需要输出细线形光斑,也需要整形来搭配实现。
分束
相比于靠膜层透反射分束的cubic-PBS,分束DOE依赖光栅的周期结构来调制衍射级的能量。分束DOE的微结构也是周期化的,按照周期方向可分成一维和二维光栅,见图4。
投射器模组中的vcsel光源本身的几百个孔径远不够模组上万点的要求,需要DOE进行分束复制才能实现,见图3。模组的主要组成部分即为光源,lens,DOE等组成,见图4。
图3 vcsel经过DOE分束复制后的大量散斑[6]
图4 上图为DOE阵列分束的光路示意图[5]; 左下图为一维光栅1*9分束,右下图为二维光栅5*5分束[7]。
由分束DOE组成的透射器模组,主要服务于3D深度感测,在结构光方案和dTOF方案中均有应用。落地应用主要在智能家具扫地机器人和人脸识别的门锁,手机终端的人脸识别和无人机测绘扫描中。
聚焦
聚焦DOE按照焦点类型分成单焦点,多焦点,连续聚焦,相比整形DOE在XOY平面的光强调制,聚焦DOE是在z轴上的光强调制。在激光加工的应用中,切割的材料厚度需要和激光焦深匹配。当切割材料过厚对应的焦深也要增加,一种办法就是采用多焦点,另一种就是连续聚焦。
图5 上图为多焦点的光路示意图;下图为z轴上3个焦点的分布[8]
随着自动化加工的要求越来越高,所有切削更高厚度,定制化倒角,以及切割面粗糙度的处理,都对聚焦DOE提出了更高的要求。
工艺加工
一般小FOV的DOE,均可以采用多阶化(8阶甚至16阶)的结构来实现。加工方式可以分成刻蚀DOE以及纳米压印DOE。刻蚀DOE耐热性,可靠性更高,更适合极端条件下工作,纳米压印DOE成本更低,更适合消费电子类低成本的应用。
图6 DOE的刻蚀模板加工过程
a 掩模版转移到光刻胶上;b 胶结构刻蚀到玻璃基材上
c 得到DOE[6]
[1]Homburg, Oliver et al. “Efficient beam shaping for highpower laser applications.” Laser Technik Journal 4 (2007): 44-47.
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微纳研究所
水晶光电微纳研究所,专注于微纳光学新产品市场技术调研及研发工作。通过自编算法与设计,配备同行业高端设备,具备芯片镀膜、晶圆光刻、干/湿法刻蚀、纳米压印等核心技术开发和量产能力。目前微纳所已开发的产品包括DOE、扩散片、PBS偏振片、超透镜等,广泛应用于消费电子、车载HUD等领域,可以根据客户需求提供从产品设计开发到量产制造一站式服务。
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